射線檢測(cè)技術(shù)是一種常規(guī)的無損檢測(cè)方法,在工業(yè)上有著非常廣泛的應(yīng)用。作為產(chǎn)品質(zhì)量檢測(cè)的重要手段,經(jīng)過百年的歷史,已由簡(jiǎn)單的膠片和熒屏射線照相發(fā)展到了數(shù)字成像檢測(cè)。就目前筆者單位采用的DR系統(tǒng)檢測(cè)技術(shù)和射線膠片檢測(cè)技術(shù),來比較兩種檢測(cè)技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)、實(shí)用性和發(fā)展?fàn)顩r。

下面以數(shù)字射線中DR為例，簡(jiǎn)單的敘述一下采用DR檢測(cè)過程中的步驟：

1. 根據(jù)檢測(cè)技術(shù)要求，設(shè)計(jì)檢測(cè)圖像質(zhì)量指標(biāo)。其中包括對(duì)比度設(shè)計(jì)（即必須達(dá)到的像質(zhì)計(jì)靈敏度）；確定需要達(dá)到的不清晰度，即選用合適的DDA探測(cè)器，因?yàn)樘綔y(cè)器的像素尺寸影響圖像的空間分辨力（有的喜歡用分辨率，其實(shí)是一個(gè)性能指標(biāo)），或者是圖像不清晰度。

其中這第1步是三級(jí)人員的要求，一般人跳過就好。

2. 按三級(jí)人員確定的技術(shù)指標(biāo)，選擇成像板，射線機(jī)，圖像處理軟件和顯示器（這也是DR檢測(cè)的一個(gè)很大的優(yōu)勢(shì)，可以自己組建檢測(cè)系統(tǒng)，好比自己買配件來組裝電腦一樣，只需要兼容即可）組建檢測(cè)系統(tǒng)。

3. 對(duì)射線機(jī)進(jìn)行訓(xùn)機(jī)（這個(gè)跟常規(guī)射線檢測(cè)一樣），然后對(duì)成像板進(jìn)行暗場(chǎng)校準(zhǔn)（因?yàn)镈DA探測(cè)器中的每個(gè)電子元器件由于結(jié)構(gòu)等不完全一致，存在本底噪聲不同，暗場(chǎng)校準(zhǔn)是為了讓所有元器件達(dá)到一個(gè)比較均勻的水平）。

暗場(chǎng)校準(zhǔn)后對(duì)成像板進(jìn)行亮場(chǎng)（也叫增益）校準(zhǔn)（好比相控陣超聲波檢測(cè)中，對(duì)探頭晶片增益進(jìn)行校準(zhǔn)一樣。同時(shí)這個(gè)亮場(chǎng)校準(zhǔn)也決定了圖像信噪比，當(dāng)校準(zhǔn)電壓大大低于射線檢測(cè)時(shí)采用的電壓時(shí)，可能會(huì)出現(xiàn)信噪比飽和的情況，也就是檢測(cè)的信噪比不夠。此時(shí)需要重新亮場(chǎng)校準(zhǔn)）。

最后對(duì)成像板壞像素進(jìn)行校準(zhǔn)（因?yàn)槌上癜迨请娮悠骷赡茈S著使用時(shí)間的延長(zhǎng)出現(xiàn)壞死，這樣對(duì)成像結(jié)果不利。這個(gè)跟相控陣超聲波檢測(cè)中對(duì)探頭陣元壞死情況進(jìn)行查看一樣，當(dāng)壞死的器件達(dá)到一定程度時(shí)，就影響檢測(cè)，這個(gè)時(shí)候可能需要更換成像板）

4. 按三級(jí)人員確定的透照技術(shù)進(jìn)行射線檢測(cè)，透照布置圖如上圖2所示。這里跟膠片法檢測(cè)一樣，唯一有區(qū)別的是探測(cè)器和工件可能不是緊貼的（膠片法中盡量緊貼）。

通常，DR射線檢測(cè)也是需要曝光曲線的，與膠片法射線檢測(cè)不同的是，DR的曝光曲線是曝光量和厚度，還有管電壓在一定的信噪比（而膠片法里是黑度）下的關(guān)系曲線。按照給定的曝光曲線，調(diào)節(jié)管電壓，管電流，積分時(shí)間和疊加幀數(shù)來進(jìn)行曝光。

5. 采集圖像，對(duì)圖像進(jìn)行分析處理（這個(gè)時(shí)候，你發(fā)現(xiàn)了采集圖像后就直接進(jìn)行評(píng)片了，這個(gè)跟膠片法不一樣，膠片法中還需要對(duì)底片進(jìn)行暗室處理，這里直接評(píng)片，省下了很多時(shí)間）。